廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機特(te)點：

采用多層隔板(ban)設計，批量處(chu)理模(mo)壓(ya)光學(xue)鏡(jing)片(pian)的碳鍍膜工藝，每(mei)爐可放數千個(ge)鏡(jing)片(pian)；

智(zhi)能化PLC程序升溫程(cheng)序，真空程(cheng)序，CVD進氣程序，操作簡單方便；

優質干式(shi)真空泵(beng)(beng)，杜(du)絕油液污染，可選擇國產干式(shi)泵(beng)(beng)和進口干式(shi)泵(beng)(beng)；

智能化CVD進氣控制系統，適應于氮氣、乙炔/甲烷、氬氣、空氣的通入和混合；

*的密封(feng)系統，泄(xie)漏率(lv)低，長期(qi)使用穩定(ding)性高；

廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機詳細資料：

主要(yao)用(yong)途

適用于模壓非(fei)球面光學玻(bo)璃鏡片的(de)碳(tan)鍍膜工藝；

適應于(yu)半導體行業晶圓表面薄膜生長；

可用(yong)于陶瓷及單晶體(ti)表面(mian)沉積碳納米(mi)管工藝；

產品技術(shu)參數

產品(pin)型號：GS-30-700廣樹      

最高溫度： 700℃；

使用氣(qi)氛(fen)： 氮氣、氬氣、空氣、二氧化碳、乙炔、甲烷(wan)、合氣體；

長(chang)期使用：400-700℃；

波 動 度： ±1℃；

顯示精度： 0.1℃；

均 勻 度： 容(rong)積30L；

進(jin)氣(qi)流量：三路MFC質量流量計控制，一路浮子流量計控制；

升降系統(tong)： 兩套(tao)伺服升降系統平(ping)臺；

控(kong)制(zhi)系統：智能程序化PLC控制系統；

真空(kong)泵(beng)真空(kong)度： 極(ji)限真空1Pa；

腔內(nei)真空度：≤10Pa；

降(jiang)溫(wen)要求：外置冷卻風(feng)機，降(jiang)溫(wen)階段(duan)強制(zhi)降(jiang)溫(wen)；

整機(ji)功率： 18KW；

電 源 ： 380V, 50Hz；

水冷裝置(zhi)：優質水冷機,PLC聯機控制

保(bao)護裝置： 過載、過流、過壓保護，接地，熱電偶異常報警，第二回路超溫報警(jing)保(bao)護裝置；冷卻水溫保護，壓

力過載保護；

技(ji)術服務： 提供設備使用過程中的技術咨詢和支持，接到客戶故障通知3個工作時內立即響應。